技术编号：6839232
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明属于光学电子器件，具体为。在国际先进纳米光子器件制备系统(如德国Leybold电子束蒸发的薄膜制备系统)中，采用了在位光学检测技术，因不易兼顾宽光谱检测、速度和分辨率之间的矛盾，仅采用了静态光学波长Tx测量的方法，其特征为薄膜制备→实时静态单波长光学检测Tx→工艺控制这在技术上已有了显著进步，但因无法在薄膜生长的很短时间内实现对光谱特性进行高速和高精度的扫描测量，无法在一定带宽范围内进行实时全光谱检测和分析，包括无法对多层薄膜生长过程中光谱全貌特性和...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。