技术编号：6843118
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及。并且，本申请以2003年的日本专利申请2003年第009237号为基础，将其内容并入本申请中。背景技术 为了形成湿蚀刻部件，通常可采用如下方法。在铁系或铜系金属材料上，将可溶于碱的光致抗蚀剂膜形成所希望的图案，然后使用酸性氯化亚铁蚀刻液或二氯化铜蚀刻液，对从上述光致抗蚀剂膜暴露出来的金属部分进行蚀刻。在这样的使用蚀刻液的方法中，从光致抗蚀剂的开孔部到光致抗蚀剂膜的正下方各向同性地进行蚀刻。因此，发生侧面蚀刻(各向同性的蚀刻也进入到光致抗蚀剂膜面...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。