技术编号:6843620
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种,可以通过控制光敏材料上的图案的曝光,将该螺线管制作成具有接近正圆的圆形截面的横向或纵向螺旋线圈。图26给出了一个投射曝光装置的示意图,该装置用于烧固图案(baking a pattern)的光刻步骤,这是半导体制造过程中的一个步骤。该图所示的光敏材料10为正感光型,显影后未受光照的那部分光敏材料10将留存下来,而受到光照的那部分光敏材料10将被刻蚀掉。来自光源的光束4将掩模M上明暗形式的图案转移至衬底1上的光敏材料10上。例如,当一个由环状...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。