技术编号：6844209
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及通过湿法蚀刻用以在薄金属膜上形成图案的蚀刻剂和使用该蚀刻剂的蚀刻方法。更具体地，本发明涉及用以蚀刻包括铝合金层和钼-铌合金层的多层膜的。背景技术 近来，用在诸如半导体元件和液晶显示元件等半导体器件中的电极和门电路配线材料日益需要具有更高程度的微细加工精度。另外，已经提出了使用具有较低电阻的金属材料。具有较低电阻的金属材料的实例包括铝和铝合金，并且这些材料正在越来越多的被使用。用来加工该金属的薄膜以形成诸如配线等微结构的技术的实例包括湿法蚀刻技术，...
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