半导体装置及其制造方法技术资料下载

技术编号:6844248

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本发明涉及一种双栅极构造、三栅极构造这样的,作为晶体管发挥功能的存在有多个结晶面的。背景技术 近年来,为了能够强化穿通耐性,形成短沟道的晶体管,提出了双栅极构造或三栅极构造的半导体装置。采用在硅基板表面形成凹凸,在其侧面、上面形成栅极绝缘膜与栅电极,将其侧面的、或侧面与上面的硅基板表面作为晶体管的沟道的这种构造。在将两个侧面作为沟道的情况下,称作双栅极构造,在将两个侧面与上面作为沟道的情况下,称作三栅极构造。但是,并不限于双栅极构造或三栅极构造,即使是单栅...
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