技术编号:6845601
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及可以高效率地形成不同种类的绝缘膜的成膜方法和成膜装置,特别涉及适于低介电常数膜的改性以及在该低介电常数膜上形成膜质不同的绝缘膜的绝缘膜形成方法和绝缘膜形成系统。背景技术 在半导体集成电路中,为了提高处理速度,就需要降低R·C时间常数。通过将低电阻率的铜用作布线材料来降低电阻R,另一方面,通过将介电常数K低的绝缘膜(低介电常数膜)用作层间绝缘膜来降低静电电容C。另外,可以通过使用低介电常数膜来防止串扰。内部空孔率高的多孔绝缘膜作为低介电常数绝缘膜得...
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