技术编号:6845682
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及新型的形成光刻用下层膜的组合物、由该组合物形成的下层膜、使用了该下层膜的光致抗蚀剂图形的形成方法。另外,本发明涉及可以作为在半导体器件制造的光刻工艺中减少曝光照射光从基板向涂布在半导体基板上的光致抗蚀剂层的反射的下层防反射膜,用于使具有凹凸的半导体基板平坦化的平坦化膜,防止加热烘烤等时由半导体基板产生的物质所导致的光致抗蚀剂层的污染的膜等来使用的光刻用下层膜、用于形成该下层膜的形成下层膜的组合物、和该下层膜的形成方法。另外,本发明涉及形成用于掩埋...
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