技术编号:6845881
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及金刚石n型半导体及其制造方法、应用该金刚石n型半导体的半导体元件及应用该金刚石n型半导体的电子发射元件。背景技术 应用SCR、GTO、SIT、IGBT、MISFET等半导体材料的功率器件,是利用n型或p型等半导体制造的。在这种功率器件中,除了控制各自的载流子的浓度之外,非常重要的是还要形成浓度非常高的载流子浓度、降低电阻。这是因为希望与供给电流的电极金属之间的接触电阻较小。因此,在现有技术中,通过高浓度的掺杂,形成n+层及P+层,通过该层,能够实...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。