技术编号：6846299
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及排气系统，具体涉及包括过压和/或回流保护的排气调节系统以及用于半导体蚀刻和沉积工艺的组合的弯管(trap)/消声器。背景技术 许多半导体设备制造工艺容易中断、不稳定且具有过程控制的损耗，这是由于在通过其把加工废物排放到大气的排气系统中具有固体和液体沉积物。大多数这样的工艺操作在低于大气压的压力下，以提高沉积或蚀刻的薄膜的均匀性，并在加工室中能重复运行，因而这样的排气系统包括真空泵。对整个排气系统依照90摄氏度到140摄氏度的次序进行加热，可以解决...
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