技术编号：6847812
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明属于气体放电，涉及。背景技术 低温等离子体表面处理可使材料表面发生多种的物理、化学变化，改变其亲水性、粘接性、可染性及电性能等等，具有广阔的工业应用前景。辉光放电产生的低温等离子体由于其功率密度适中且分布均匀，在处理一些纤维材料上具有特殊的优势，但无论是低气压下的辉光放电还是在一些特殊气体如氦气中实现的大气压下辉光放电都离不开真空装置，大大影响了流水作业的实现和生产效率的提高，增加了运行成本。高频(1千赫兹～100千赫兹)电容型介质阻挡放电是常用的辉...
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