技术编号:6849662
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及用于形成常介电性或者强介电性Bi类电介质薄膜的涂布液以及使用该涂布液形成的Bi类电介质薄膜。本发明的涂布液能够发挥常电介质形成材料和强电介质形成材料的性能,广泛适用于利用热电性、高介电性、强介电性的领域之中。特别是能根据半导体装置要求的特性,广泛用于单体的电容器(薄膜电容器)、DRAM及非挥发性存储器的电容器等之中。背景技术 伴随着对半导体存储器的记忆容量增加的需求,开始研究在DRAM(Dynamic Random Access Memory)中...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。