技术编号:6849765
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及衬底的处理方法及用于该方法的药液。背景技术 通常,有在半导体晶片、LCD(液晶显示屏)衬底或其它衬底上形成有机膜图案,然后以该有机膜图案为掩模通过进行底膜或衬底的腐蚀,进行底膜的图案加工(底膜加工),由此形成布线电路等的技术。另外,在底膜加工之后,一般通过剥离处理除去有机膜图案。但是,例如,如专利文献1中所示,在衬底上形成有机膜图案(在所述公开中称为“抗蚀剂图案”)后,以该有机膜图案为掩模通过腐蚀对底膜(1层或2层)进行图案加工(底膜加工),通过...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。