技术编号:6849925
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及光学光刻,是一种采用全透明无铬移相掩模实现100纳米图形加工的新方法。背景技术 在微电子技术中,光学光刻技术一直是主流技术被工业界广泛采用,但光学光刻技术的分辨率受衍射效应的影响一般不能突破光学光源波长的限制,即如果光学光源采用436nm,则其光刻分辨率在0.8微米。尽管目前光学光刻技术的光源波长已经缩短到193nm,但采用193nm波长光源的光学光刻设备非常昂贵(在1100万美元),一般的研究机构很难负担如此昂贵的设备,同时微电子技术的研究已经...
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