技术编号：6850131
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明主要涉及衬底制造技术，尤其涉及用于创建等离子体处理系统的数学模型的方法和阵列。背景技术 在衬底(例如半导体衬底或用于平板显示器制造中的玻璃板)的处理过程中，通常采用等离子体。作为衬底处理的一部分，例如，衬底被分成多个块(die)或矩形区域，每个块或矩形区域都将变为集成电路。然后，在一系列步骤中处理衬底，其中，选择性地去除(蚀刻)并沉淀(沉积)以在其上形成电子组件。在典型的等离子体蚀刻工艺中，在蚀刻之前，用硬化乳剂薄膜(即，例如光致抗蚀剂掩模)覆盖衬底...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。