技术编号:6850232
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种光刻装置和一种器件制造方法。背景技术 光刻装置是将所需图案应用于基底目标部分上的一种装置。光刻装置可以用于例如集成电路(IC)的制造。在这种情况下,构图部件,如掩模可用于产生对应于IC一个单独层的电路图案,该图案可以成像在已涂敷辐射敏感材料(抗蚀剂)层的基底(例如硅晶片)的目标部分上(例如包括一部分,一个或者多个管芯)。一般地,单一的晶片将包含相继曝光的相邻目标部分的整个网格。已知的光刻装置包括所谓步进器,通过将整个图案一次曝光到目标部分上而...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。