技术编号:6852380
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及在基板处理设备内的气氛控制,该设备包括多个对半导体基板、用于液晶装置的玻璃基板等进行预定处理的处理装置。背景技术 在半导体装置或液晶装置的制造工序中,采用对半导体基板或玻璃基板进行各种处理的基板处理设备。在这样的基板处理设备中,设有多个负责一个工序的处理装置,以通过利用多个处理装置的并行处理来提高产量。然而,如果只是简单地设置多个装置,则这些负责进行相同工序的装置不能以完全相同的方式发挥作用,从而导致处理后的基板之间质量差异。这样的质量差异归因于...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。