技术编号:6852431
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种关于微米级或纳米级结构的光刻器件。特别地,本发明涉及基片或实物上的压印光刻。背景技术 微电子以及微机电不断地朝着愈来愈小的尺寸的趋势发展。一些最有趣的制作微米和亚微米结构的技术包括不同类型的光刻法。光刻法典型地包括用光刻胶材料涂覆基片以在基片的表面上形成抗蚀层的步骤。然后,优选通过使用掩模板使抗蚀层在选择的部分处暴光于辐射。随后的显影步骤除去抗蚀层部分,从而在抗蚀剂内形成对应于掩模板的图案。抗蚀剂部分的去除暴露出基片表面,其可通过例如蚀刻、掺...
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