技术编号:6854108
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种离子注入设备和离子注入方法,其通过用离子束辐照衬底(例如说明书的以下描述中的半导体衬底)来注入离子。更具体地,本发明涉及一种离子注入设备和离子注入方法,其能减小运行该离子注入设备所需的能量。背景技术 在现有技术的离子注入设备中,在未对衬底进行离子注入的时候,例如在从已经对某组衬底完成离子注入时到对下一组衬底开始离子注入时的时期中,设备的运行状态为以下的状态(a)或(b)。即,运行状态(a)为除了没有用离子束辐照衬底外,保持与注入过程相同的状态...
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