技术编号:6854533
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及具有半导体元件的。背景技术 通常,通过利用光掩模的曝光工艺(下文中称为光刻工艺)构图各种薄膜来制造由以薄膜晶体管(下文中也称为TFT)和MOS晶体管为代表的半导体元件组成的所谓有源矩阵驱动显示面板或半导体集成电路。在光刻步骤中,将抗蚀剂涂布在衬底的整个表面上并执行预烘干,且经由光掩模将紫外线等照射到抗蚀剂以使其曝光,然后通过显影形成抗蚀剂掩模。其后,利用抗蚀剂掩模作为掩模蚀刻掉要成为半导体区域或布线以外的部分中存在的薄膜(由半导体材料、绝缘材料或...
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