技术编号:6855807
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明一般涉及用于半导体器件处理的光刻技术,更具体地说,涉及修正光刻掩膜中缺陷的方法和装置。背景技术 在常规光刻系统中,半导体制造技术通常利用掩膜或标线片以在半导体晶片上投影图像,其中穿过(或反射回来)掩膜/标线片提供辐照,并且经过聚焦光学系统以形成图像(例如,集成电路图形)。定位半导体晶片,以接收透过(或反射回来)掩膜/标线片的辐照,以使在晶片上形成的图像对应于在掩膜/标线片上的图形。辐照源可以是光,例如紫外光、真空紫外(VUV)光、极紫外(EUV)光和...
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