技术编号：6862520
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及用于红外焦平面成像系统的非均匀性测量、校正的方法和装置。进行非均匀性校正，一般包含以下三步首先是精确测量各探测单元的响应特性；然后在此基础上确定校正算法，计算校正系数；最后将校正系数提供给硬件处理模块，从而完成实时校正功能。为测量红外成像系统非均匀性，通常使用标准面源黑体作为测量辐射源，通过改变黑体源的辐射强度，测量红外热成像系统响应的信号输出，从而获得系统响应的非均匀性曲线，而要取得良好的非均匀性校正效果，需采集针对两点以上辐射强度的系统响应数...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。