技术编号:6865363
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及例如在半导体装置的制造工艺中使用的、。背景技术 例如,随着半导体装置中的电路结构的微小化,半导体装置的制造工艺中使用的基板处理装置中容纳半导体基板的处理室要求极高的清洁度。因此,例如在专利文献1中,公开有将通过酸清洗可以容易去除表面上粘附的污染物质的硅结晶体配置在处理室内与等离子体接触的部分,由此提高在处理室内的等离子体暴露区域的清洁度的技术。另外,在专利文献2中,将包含含有氮的化合物和含有氟的化合物的清洁气体导入到堆积装置的处理室内而产生等离子...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。