技术编号:6865650
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种用于离子束注入器的工件转移系统,且更具体而言,涉及一种能够消除对设置在实施工件处理的离子束注入器的已抽真空的次大气压力区域中的工件转移子系统的需要的工件转移系统。背景技术 离子束注入器被广泛用于对半导体晶片进行掺杂的工艺中。离子束注入器产生包括所需种类的带正电的离子的离子束。离子束撞击在工件如半导体晶片、基板或平面板的暴露表面上,由此利用所需离子对工件表面进行掺杂或注入。许多离子注入器利用序列式注入,其中一个相对较大的工件被放置在位于抽真空注...
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