曝光装置、曝光方法、以及元件制造方法技术资料下载

技术编号:6866995

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本发明是关于通过液体使基板曝光的。背景技术 半导体元件或液晶显示元件,是由将形成于掩膜上的图案转印于感光性基板上、即所谓的光刻方法来制造。此光刻步骤所使用的曝光装置,具有支撑掩膜的掩膜载台与支撑基板的基板载台,使掩膜载台与基板载台一边逐次移动一边通过投影光学系统将掩膜的图案转印于基板。近年来,为对应元件图案的更高集成化,而期待投影光学系统具有更高分辨率。投影光学系统的分辨率,是所使用的曝光波长越短、或投影光学系统的数值孔径越大则会越提高。因此,曝光装置所使...
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