技术编号:6867692
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明总的来说涉及基板制造技术,具体地,涉及用于调整一组等离子体处理步骤的方法和装置。背景技术 在诸如使用在平板显示器制造中的基板(例如,半导体基板或玻璃面板)的处理中,经常使用等离子体。例如,作为基板处理的一部分,将基板分成多个管芯(die)或矩形区域,每个管芯或矩形区域都将成为集成电路。接着,通过一系列步骤处理基板,其中,选择性地去除(蚀刻)和沉积材料,以在其上形成电子元件。在示例性的等离子体工艺中,在蚀刻之前,用硬化的感光乳剂薄膜(即,例如,光刻胶掩...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。