技术编号:6869643
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及具有将抗蚀剂涂布在半导体晶片(以下称“晶片”)等基板表面的涂布单元和在其表面形成液层、向液浸曝光后的晶片供给显像液并显像的显像单元的。背景技术 以往,在作为半导体制造工序之一的光刻(photoresist)工序中,在晶片表面涂布抗蚀剂,按照规定的图案将该抗蚀剂曝光后,向该晶片供给显像液并显像,制作抗蚀图。上述的处理,一般使用将曝光装置连接到具有涂布单元和显像单元的涂布、显像装置上的系统进行。从该涂布、显像装置向曝光装置,或者从曝光装置向涂布、显像...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。