技术编号：6869977
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及对例如半导体晶片或液晶显示器用玻璃基板(LCD基板)等基板进行抗蚀剂液等的涂敷处理和曝光后的显影处理的。背景技术 在半导体设备和LCD基板的制造工艺中，利用称为光刻法的技术对基板进行抗蚀剂图形的形成。在该技术中，在基板，例如半导体晶片的表面上涂敷抗蚀剂液而形成液膜，干燥成为抗蚀剂膜后，使用光掩模以所希望的图形将该抗蚀剂膜曝光，其后，通过进行显影处理，获得与曝光图形对应的抗蚀剂图形。这样的处理，一般在进行抗蚀剂液等的涂敷和显影的涂敷·显影装置上，使...
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