半导体存储装置的制作方法技术资料下载

技术编号:6870229

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本发明涉及一种半导体存储装置,尤其是涉及一种包括单元接触垫片的半导体存储装置。背景技术 随着半导体存储装置的存储容量增加的发展,实际使用的是1GB的DRAM(为了简短,下文中动态随机存取存储器称为DRAM)。用于大容量半导体存储装置的元件尺寸进行小型化,具体地,DRAM的字线(行线)之间的间隔随着存储单元的小型化而减小。结果,要内埋或嵌入行线内的中间层膜的形成变得困难。由于晶体管容量已经提高,需要低温热处理,并且温度的进一步降低是形成中间层膜必不可少的。另...
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