技术编号:6870849
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种,特别涉及一种降低曝光时间的。背景技术 电子束曝光技术作为一种高分辨率的曝光技术,现已成为纳米级微细加工技术和微电子技术中的主要曝光手段。目前,电子束曝光主要应用在光刻技术掩膜制造、新一代集成电路的研制与开发以及新器件、新结构的研究与加工等方面。如申请号为“200380102314.2”中所描述的电子束曝光系统,现有的电子束曝光系统包括用于形成和控制电子束的电子光学柱、精密移动平台和电子控制装置,其中,电子光学柱主要包括电子源、电子束控制口径...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。