技术编号:6872943
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种微影制程,特别是涉及一种在集成电路制程中进行光阻烘烤及显影的处理方法,此处理方法包括整合温度控制装置以及光学量测系统,藉由动态且即时的方式来调整光阻的烘烤制程,以改善微影制程中的特征尺寸(critical-dimension,CD)以及控制该特征尺寸的均匀度,以增加晶圆的产能。背景技术 由于半导体元件的快速发展,半导体元件的尺寸持续微缩,使得半导体的晶片尺寸越来越小,并且有效地提高半导体元件的密度。在半导体尺寸持续朝向微缩以及高密度发展之际,...
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