技术编号:6873411
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及光刻设备以及在制造如集成电路(IC)这样的装置的过程中使用这种设备的方法。更具体地说,本发明涉及改进极远紫外(EUV)辐射束的光谱纯度并且还过滤由辐射源发射的碎片(debris)的多层光谱纯滤光片。背景技术 光刻设备是一种将想要的图案施加到衬底(通常为衬底的目标部分)上的机器。光刻设备可用于比如集成电路(IC)的制造。在那种情况下,可利用另外被称为掩模或分划板的图案形成装置生成将在IC的单个层上形成的电路图案。该图案可被转移到衬底(如硅片)上的目...
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