半导体器件及其制造方法技术资料下载

技术编号:6875000

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本发明涉及一种具有优质膜的半导体器件,该膜是在层叠导电膜、绝缘膜、半导体膜等的情况下通过对绝缘膜或者半导体膜实施等离子体处理以改善表面质量来获得的,和该半导体器件的制造方法。背景技术 近年来,用于形成具有在具有绝缘表面的衬底例如玻璃上方形成的半导体薄膜(几个nm至数百nm的厚度)的薄膜晶体管(TFT)的技术已经引起大家的注意。上述薄膜晶体管已经广泛地应用于半导体器件例如IC或者电光器件,另外,为了适应对半导体器件小型化和高性能的需要,上述薄膜晶体管具有更小...
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