技术编号：6875195
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种制备光学器件的方法，具体而言，本发明不排它性地涉及制备集成光学器件或光电子器件，例如半导体光电子器件如激光二极管、光学调制器、光学放大器、光交换机、光学检测器等。本发明还涉及包括这种器件的光电子集成电路(OEICs)和光子集成电路(PICs)。本发明不排它性地特别涉及一种使用新型并且改进了的杂质诱导的量子势阱(Quantum Well)混合(QWI)工艺制备光学器件的方法。背景技术在光通信系统中，向单外延层上不同光学元件的单片式集成是非常令人...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。