技术编号:6875535
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及在由多个处理装置构成的在线装置上对多个基板进行单片式处理的。背景技术 在例如半导体等电子元器件的制造工序中的光刻工序中,是将作为对晶片等基板进行抗蚀液(以下称作抗蚀剂)的涂布和显影处理的单元装置的抗蚀剂涂布显影装置、以及、对涂布抗蚀剂后的基板进行曝光处理的曝光机组合起来进行在线处理的。具体地说,如图9的示意图所示,首先在抗蚀剂涂布显影装置200中,作为主要工序,对基板进行清洗处理→脱水烘焙→粘附(疏水化)处理→抗蚀剂涂布→预烘焙等(一系列工序)的...
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