技术编号:6886334
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明大体上涉及用于形成半导体结构的方法,且更具体地说涉及用于形成垂直晶 体管装置的改进的方法。 背景技术集成电路设计者制造更快且更小的集成电路的一种方式是通过减小构成集成电路 的各个元件之间的分隔距离。这种增加衬底上的电路元件的密度的工艺通常称为提高装 置集成水平。在设计具有较高集成水平的集成电路的工艺中,已研发出改进的装置构造 和制造方法。常见的集成电路元件的一个实例是晶体管。晶体管用于许多不同类型的集成电路, 包含存储器装置和处理器。典型的晶体管包括...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。