技术编号：6887376
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及在衬底表面上淀积纳米线的方法。 背景技术在微电子领域，不断需要开发出较小的器件元件，其中该较小的器件 元件可以以最低可能的失效率被方便而又廉价地重复制造。在本领域内公知用于制造集成电路(IC)的光刻技术。然而，器件越小，难度就越大，结果，制造越昂贵。此外，在制造分子尺寸的半导体时，光刻方法由于分 辨率和对准所施加的光刻约束而失败。因此，希望通过使用驱动力的技术制造IC，该驱动力促使电路以希望的方式组装(电子电路的自组装)。一维纳米结构，例如纳米线...
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