技术编号：6887856
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明之揭示系有关微结构制造之领域，且尤系有关一种根据纳米压印技术(nano imprint technique)而界定微结构特征之方法。 背景技术诸如集成电路等的微结构之制造需要在诸如硅衬底等适当的衬底 的材料层中形成具有精确控制尺寸之微小区域。藉由图案化材料层， 例如藉由执行微影及蚀刻工艺，而产生这些具有精确控制尺寸之微小 区域。为达到此一目的，在传统的半导体技术中，系在所考虑的材料 层之上形成掩膜层(mask layer),以便先在该掩膜层中界定这些...
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