技术编号:6888879
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明总地涉及一种闸阀,具体来说,涉及一种能够均匀地保持气密并同 时最大可能地减小对气缸的依赖由此可均匀地分配压力的闸阀。背景技术在加工处理半导体晶片或液晶衬底的典型装置中,半导体晶片或液晶衬底 通过真空腔室中的衬底传输通道,加载到各种处理腔室上或从这样腔室中卸载 出来。为了打开和关闭该衬底传输通道,在该衬底传输通道上安装了闸阀。如图1所示,现有代表性的闸阀适于以某种方式打开和关闭真空腔室1,使得形成在真空腔室一侧上的闸门2设置有具有尺寸对应于闸门尺寸的密...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。