技术编号：6890584
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及包括IV族半导体的表面的处理的半导体器件的制造设备和制造方法。背景技术传统上，对半导体Si基板进行湿法清洗。然而，湿法清洗存在不能够完全去除干 燥状态下的水印、不能够控制对非常薄的氧化膜的蚀刻、并需要大型设备等的问题。此外， 在湿法清洗之后使该半导体基板长时间暴露至大气时，出现在该半导体基板的表面上形成 自然氧化膜并且吸附碳原子从而妨碍Si单晶的成膜、生成膜的凹凸外形、以及在栅极绝缘 膜的界面处生成杂质能级等的问题。因此，在成膜之前，通过施加75...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。