技术编号:6891482
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种半导体元件及其制造方法,特别是涉及一种自行对准接触窗开口的制造方法与内连线结构及其内连线的制造方法。背景技术 目前超大规模集成电路(ULSI)制程解析度(分辨率)已经发展到0.18微米以下,即深度对宽度或直径的比例愈来愈大,金属和半导体的接触窗也愈来愈小,因此要如何克服愈来愈小的线宽,防止接触窗发生对准失误(Misalignment),已成为半导体业界的研发重点。为了克服愈来愈小的线宽以及防止接触窗发生对准失误,通常许多半导体元件会采用自行对...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。