具有最佳锗分布的硅锗双级晶体管的制作方法技术资料下载

技术编号:6892291

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本发明涉及硅锗双极晶体管,其锗浓度分布被最佳化,以便减小与工作点有关的电流放大系数变化。硅锗双极晶体管,简称SiGeBT,是硅双极晶体管的进一步发展,并且其特征为在高频波段不寻常的效率。在这种SiGeBT中有目的地使基极区及邻接的发射极区的边缘区与锗(Ge)形成合金。在应用合适的锗分布的情况下,在晶体管的该区内在价带和导带之间的能带宽度起较小的作用,以致载流子较快地通过基极区。因此,SiGeBT具有极高的极限频率并特别适合于高频应用。这种SiGeBT例如可...
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