技术编号:6893197
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种半导体制造设备,具体涉及一种硅片清洗机,本发明还涉及一种硅片清洗方法。 背景技术在集成电路的制造过程中,需要对硅片进行清洗。目前一般采用超声波清洗槽清 洗硅片,但常用的超声波清洗槽,只能进行整批硅片的清洗,无法对单枚硅片进行清洗。发明内容 本发明所要解决的技术问题是提供一种硅片清洗机,它可以对单枚硅片进行连续 处理。 为解决上述技术问题,本发明硅片清洗机的技术解决方案为 包括硅片承载台、旋转手臂、硅片清洗槽、旋转干燥单元;所述旋转手臂的一侧设...
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