技术编号：6894215
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种太阳能电池，尤其是涉及一种利用激光全息法并结合湿法刻蚀方法的多 晶硅太阳能电池织构减反层制造工艺。技术背景织构技术是一种降低表面反射率、提高光吸收的表面处理工艺， 一般用于多晶硅太阳能 电池的制作。由于多晶硅晶向杂乱，无法像单晶硅那样通过各向异性腐蚀得到类金字塔型的 表面结构降低反射率，因此需要简单有效地对其表面进行减反处理，进而提高多晶硅太阳能 电池的光电转换效率。现有的织构技术，主要有以下几种方法1 )机械刻蚀(见文献[1] system...
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