技术编号：6894492
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及用于制造高电压晶体管的半导体器件结构和工艺。技术背景在半导体领域中高电压场效应晶体管(HVFET)已是公知的。很多 HVFET采用的器件结构包括延伸的漏极区，当器件处于"截止"状态时， 该延伸的漏极区支持或阻断所施加的高电压(例如几百伏)。在常规 的垂直HVFET结构中，半导体材料的台或柱形成用于导通状态中的电 流的延伸的漏极或漂移区。在衬底顶部附近、与台的側壁区域相邻地 形成沟槽栅极结构，在台处将本体区设置在延伸的漏极区上方。向栅 极施加适当的...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。