技术编号:6895356
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及制备一种用于太阳能电池的抗反射或钝化涂层的方法,还 涉及一种用于制造太阳能电池的涂覆装置,特别是使用所述方法的涂覆装 置。背景技术基于硅晶片来制造太阳能电池的方法通常如下进行在已经掺杂的硅 晶片中掺杂另一种掺杂物质,这种掺杂物质具有可使P型或N型导电性不 同于原先掺杂的材料的性质。例如,可以通过使用例如POCl3的扩散工艺 来处理具有P型导电性的掺杂硼的硅晶片,从而结合磷并形成N型层。在形成这样的PN结之后,必须在衬底表面上形成抗反射涂层或钝化层...
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