具有精细隐埋绝缘层的soi衬底的制作方法技术资料下载

技术编号:6900911

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本发明涉及通过对两片由选自半导体材料的材料制成的衬底进行直 接晶片键合从而制造衬底的方法,由此获得的最终结构特别用于电子、 光学、光伏或光电子学领域的用途。更确切地说,该最终结构是一种绝缘体上半导体(SeOI),更具体而 言是一种SOI (绝缘体上硅)衬底,其特征在于具有特别薄(小于50nm) 的隐埋绝缘体。在所述薄绝缘体应当是氧化物的情况下,所述衬底是所 谓的UTBOX (超薄隐埋氧化物)型。该最终结构如下获得,即,将所谓 的"供体"衬底直接晶片键合到所...
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