技术编号:6900981
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种, 更具体而言,涉及一种支撑半导体基材使得在该半导体基材的整个区域 上均匀地进行处理的基材支撑单元,还涉及一种使用该基材支撑单元的 基材处理设备和方法。背景技术诸如半导体存储器或平板显示器等电子器件包括基材。基材可以包 括硅晶片或玻璃基材。在基材上设有多个导电层图案,在彼此不同的导 电层图案之间设有绝缘层图案。经诸如曝光、显影和蚀刻处理等一系列 处理形成导电层图案或绝缘层图案。因为导电层图案和绝缘层图案具有从几微米到几纳米的尺寸范围, 所以处...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。