技术编号：6901348
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明通常涉及半导体晶片清洗，更具体地，本发明涉及在半导体晶片旋转、清洗和干燥(SRD)组件中采用的流体喷射环(delivery ring)。背景技术 在半导体器件的制造中进行晶片预加工和清洗操作。在这种晶片预加工操作中，在旋转、清洗和干燥(SRD)组件(module)中旋转清洗晶片。图1中提供了一种现有技术的SRD组件100的实例简图。如图所示，SRD组件100包括紧固地安装在SRD室118上的槽102。SRD室118具有容纳旋转轴117的开孔，旋转轴1...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。