技术编号:6901824
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及使用高频对被处理体进行等离子体处理的等离子体处 理装置,特别涉及具备用于使不需要的高频的噪声衰减的滤波电路的 等离子体处理装置。背景技术在为了使用等离子体制造半导体器件或FPD (Flat Panel Display平板显示器)而进行的微细加工中,被处理基板(半导体晶片、玻璃 基板等)上的等离子体密度分布的控制非常重要,基板的温度或温度 分布的控制也非常重要。当基板的温度控制没有被适当地进行时,不 能够确保基板表面上的工艺的均匀性,半导体装置或显...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
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