技术编号：6902571
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。背景技术本发明涉及一种蚀刻衬底和的室和方法。在衬底的制造中，一种处理气体或者一种相同的等离子体，通常被用来处理在室中的衬底。典型地，通过例如化学气相沉积法、物理气相沉积法、离子注入法、氧化或者氮化处理将物质形成在衬底上。据此，一些衬底物质(通常是以层的形式，但是也可以具有其它形状)可以通过例如蚀刻方法被处理，以形成具有空腔、通道、孔或者沟槽形状的蚀刻部件(features)。在衬底物质中蚀刻具有大的高宽比的部件是困难的，特别是当部件也具有小开口尺寸的时候。...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。